日本半導體器材大廠Canon Inc揭露，新推的「奈米壓印(Nano-imprint Lithography；NIL)」微影器材售價只有龍頭廠艾司摩爾(ASML Holding NV)最佳機臺的幾分之一。
彭博社5日新聞，Canon執行長御手洗富士夫(Fujio Mitarai)受訪時表明，最新NIL專業讓小型半導體廠也有時機生產目前幾乎全由大企業寡占的進步晶片。他說，「機臺售價將比ASML的極紫外光(EUV)微影器材少一位數(one digit less)。」但是，終極價位尚未敲定。
御手洗表明，Canon也許無法將器材賣至中國。「就我懂得，14奈米以下的專業都是被制止的，因此我不以為可以銷售。」他並說，NIL器材需求的電力只要EUV機臺的110；固dg百家樂預測然NIL應當難以代替EUV，但相信這能創建新的時機和需要，已有很多客戶前來洽詢。
依據Canon 10月13日的宣示，NIL微影器材可用來生產5奈米晶片，且途經改善、將可進一步用來生產2奈米晶片。
華為最新5G聰明機「Mate 60 Pro」內建的處置器「麒麟9000s」觸發百家樂體驗金申請市場矚目。加州研討機構TechInsights拆解後證明，中芯國際(81HK)運用現有器材，以名為「N+2」的第二代7奈米製程百家樂在線教學打造援助5G的麒麟9000s。
但是，南華早報新聞，東京電子研討機構Fomalhaut Techno Solutions執行長Minatake Mitchell Kashio透過電子郵件受訪時表明，依據該機構拆解，麒麟9000s應當是中芯國際以自家的14奈通博百家樂米製程打造，但添加部門不同凡響專業，以使運百家樂對子和算機能臨近7奈米品級處置器。
Tom`s Hardare 9月3日新聞，中芯國際的「Tinscan NXT2024i」深紫外光(DUV)微影器材雖可打造5奈米或精製的7奈米晶片，卻必要大批採用多重暴露(multiple patterning)步驟，這是一種陰礙良率及本錢的昂貴專業。因此，中芯國際5奈米製程的經濟效益，應當遠低於英特爾(Intel)、臺積電(2330)及Samsung Foundry。
